半導體行業廢氣治理方案
方案概述
半導體行業廢氣處理，按照其廢氣處（chù）理工藝分為：酸性廢（fèi）氣處理（SEX）、堿性廢氣處理(AEX)、有機廢氣處理(VEX)和一般（bān）排氣(GEX)等；其廢氣（qì）處理係統包（bāo）括：酸性廢氣處理設備、堿性廢氣處理設備、有機廢氣處理設備等；酸（suān）、堿廢氣（qì）處理設備有：洗（xǐ）滌塔，又名噴淋塔、吸收塔（tǎ）；有機廢氣處理設備有：活性炭吸附裝置、直燃式熱氧化廢氣焚燒爐（lú）（TO）等。
方案構（gòu）成（chéng）
方案特點
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智能運維（wéi）
可遠程在線監控係統（tǒng）運（yùn）行穩定，自動化程序高，可遠程智能監控，在線監測監控達標排放。
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工況要求（qiú）底
處理（lǐ）風量（liàng）範圍大對工況要求低，廢氣中可以含有多種有機成分，處理風量範圍大：1,000~300,000Nm³/h；
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全自動控（kòng）製
PLC參與整個廢氣處理過（guò）程全自（zì）動控製，操作簡單；操作費用低；節省人力物力；減少各種意外因素；提升安全性；
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運行（háng）費用（yòng）低
廢氣濃度達到自燃節省費（fèi）用當 VOC 濃度達到（dào） 400ppm 時，不需要額外的燃料消耗。
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淨化（huà）率高（gāo）
三床式RTO效率最（zuì）好兩床（chuáng）式 RTO 淨化率在 95% 以上，三床式 RTO 淨化率在（zài） 98% 以上；
技術路線
活性炭 / 沸石（shí）+催化燃（rán）燒
淨化原理: 有機廢氣通過活性炭/沸石吸附飽和後，采用熱空（kōng）氣進行（háng）脫附再生，脫（tuō）附後的高濃度廢（fèi）氣經催化燃燒排空。催化燃燒利用熱（rè）空氣或熱氮氣來脫附產生的高濃度廢氣，有機廢氣（qì）在貴金（jīn）屬催化劑的作用下於250~400℃之間（jiān）催化氧化為CO2和H2O，並（bìng）釋放大量的熱量，通過熱交換器對熱量進行再利用。
沸石轉筒+三塔式RTO
本技術是沸石轉輪吸附同蓄熱式焚燒技（jì）術的組合（hé）工藝，淨化係統主要由三（sān）級幹式過濾裝（zhuāng）置、沸石轉輪濃縮吸附裝置、RT0、風機、換熱器、PLC自動化控製係統組成。該組合技術通過沸石轉輪的吸附濃縮使大風量、低濃（nóng）度（dù）有機廢氣濃縮為小（xiǎo）風量、高濃度濃縮氣體，高濃度濃縮氣再經RTO高（gāo）溫燃燒分解為(CO2和H2O等無機成分。
活（huó）性炭 / 沸石（shí）+催化燃燒
淨（jìng）化原理: 有機廢氣通（tōng）過活性炭/沸石吸附飽和後，采用熱空氣進行脫附（fù）再生，脫（tuō）附後的高濃度廢氣經催化燃燒排空。催化燃（rán）燒利用熱空氣或熱氮氣來脫附產生的高濃度（dù）廢氣，有機廢氣在貴金屬催化劑（jì）的作用下於250~400℃之間（jiān）催化（huà）氧化為CO2和（hé）H2O，並釋放大量的熱量，通過（guò）熱（rè）交換器對熱量進行再利用。
沸石轉筒+三塔（tǎ）式RTO
本技（jì）術是沸石轉輪吸附同蓄熱式焚燒技術的組合工藝，淨化係統主要由三（sān）級（jí）幹（gàn）式過濾裝置、沸石轉輪（lún）濃縮吸附裝置、RT0、風機、換熱器、PLC自動化控製係統組成。該組（zǔ）合技術通過沸（fèi）石（shí）轉輪的吸附濃縮使大風量、低濃度（dù）有機廢氣濃縮為小風量、高濃度濃縮氣體，高濃度濃縮氣再經RTO高（gāo）溫燃燒分解為(CO2和H2O等無機成分。